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检查方法或技术:以OM为基线,后颅窝间隔层厚5mm

检查方法或技术:以OM为基线,后颅窝间隔层厚5mm,其他区域10mm,平扫。放射学表现:右侧颞叶见小斑片低密度影,边界欠清,余脑实质内未见异常密度影。两侧侧脑室对称,三,四脑室形态,大小及位置正常,诸脑池,沟显示正常,后
提问时间:2020-02-28 04:31
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